1、碳酸鈣垢

在阻垢劑添加系統(tǒng)出現(xiàn)故障或加酸系統(tǒng)出現(xiàn)故障而導致給水pH升高，那么碳酸鈣就有可能沉積出來。應盡早發(fā)現(xiàn)碳酸鈣垢沉淀的發(fā)生，以防止生長的晶體對膜表面產(chǎn)生損傷，如早期發(fā)現(xiàn)碳酸鈣垢，可以用降低給水pH至3.0～5.0之間運行1～2小時的方法去除。對沉淀時間更長的碳酸鈣垢，則應采用檸檬酸清洗液進行循環(huán)清洗或通宵浸泡。

注：應確保任何清洗液的 pH 不要低于2.0，否則可能會對RO膜元件造成損害，特別是在溫度較高時更應注意，最高的pH不應高于11.0 。可使用氨水來提高pH，使用硫酸或鹽酸來降低 pH 值。

2、硫酸鈣垢

三聚磷酸鈉溶液是將硫酸鈣垢從反滲透膜表面去除掉的好方法。

3、金屬氧化物垢

可以使用上面所述的去除碳酸鈣垢的方法，很容易地去除沉積下來的氫氧化物  。

4、硅垢

對于不是與金屬化物或有機物共生的硅垢，一般只有通過專門的清洗方法才能將他們去除。

5、有機沉積物

為了盡可能減少繁殖，可使用殺菌溶液在系統(tǒng)中循環(huán)、浸泡，一般需較長時間浸泡才能有效，如反滲透裝置停用三天時，最好采用消毒處理。

6、清洗液

清洗反滲透膜元件時建議采用清洗液。確定清洗前對污染物進行化學分析是十分重要的，對分析結果的詳細分析比較，可保證選擇最佳的清洗劑及清洗方法，應記錄每次清洗時清洗方法及獲得的清洗效果，為在特定給水條件下，找出最佳的清洗方法提供依據(jù)。

清洗時將清洗溶液以低壓大流量在膜的高壓側循環(huán)，此時膜元件仍裝壓力容器內而且需要用專門的清洗裝置來完成該工作。